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El pasado 16, 17 y 18 de octubre se celebró en el Centro Internacional de Ferias y Convenciones (CIFCO), la 50ª edición de la Bienal de Arquitectura y Urbanismo de El Salvador, “Arquitectura sin límites” (BAUES-2018), organizada por el Colegio de Arquitectos de El Salvador (CADES). La ECMH participó a través de la Licenciatura en Diseño Estratégico y el Laboratorio de Prototipos.

La ECMH tuvo presencia en la exposición con un stand de participación dedicado a la presentación y difusión del trabajo realizado por sus estudiantes en el Laboratorio de Prototipos exhibiendo tecnología de impresión digital 3D. Así mismo, se organizó una exposición de muebles de asiento, muestra del trabajo de la cátedra de Prototipos I, a cargo de los docentes Claudia Aguilera y Carlos Barahona.

En el espacio de Aula Bienal, el día 16 de octubre, se contó con la participación de la ponencia “De usuarios y motivadores: las oportunidades ocultas en los proyectos de diseño”, a cargo de Ivette Chacón, quien se centró en las luchas y oportunidades que ofrecen los usuarios desde la visión del Diseño Centrado en el Usuario (DCU) la determinación de sus motivadores guías (Design driver’s) y su relevancia a nivel de proyectos; haciendo énfasis en las oportunidades espaciales.

El día 17 de octubre, un grupo de estudiantes de quinto año de la Licenciatura en Diseño Estratégico expone el proyecto de colaboración interinstitucional ECMH+UDB: Diseño para la vulnerabilidad, con el que ganaron la categoría de estudiantes en la International Contemporary Furniture Fair (ICFF) de Nueva York el pasado mayo. El coordinador de esta iniciativa, Eugenio Menjívar, profesor de Diseño Responsable, fue reconocido en la gala de cierre por su trayectoria docente.

Participaciones como esta, visibilizan el trabajo de la Escuela hacia otros públicos con profesionales afines, y expone a nuestros estudiantes a la realidad de rubros dinámicos y económicamente activos como el de la arquitectura, interiorismo, construcción y desarrollo urbano.